Cirs023 ISO立方體QA模體

產(chǎn)品型號：
更新時間：2024-07-29

簡要描述：Cirs023 ISO立方體QA模體,Cirs023ISO立方體QA模體,Cirs023等中心校準(zhǔn)模體經(jīng)濟(jì)*準(zhǔn)確*易于使用通過成像引導(dǎo)定位目標(biāo)對于準(zhǔn)確進(jìn)行至關(guān)重要

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Cirs023 ISO立方體QA模體,Cirs 023等中心校準(zhǔn)模體詳細(xì)介紹：

Cirs023 ISO立方體QA模體,Cirs 023等中心校準(zhǔn)模體經(jīng)濟(jì) * 準(zhǔn)確 * 易于使用

通過成像引導(dǎo)定位目標(biāo)對于準(zhǔn)確進(jìn)行至關(guān)重要。驗(yàn)證所有成像、定位和瞄準(zhǔn)系統(tǒng)是否與真正的輻射等中心對齊至關(guān)重要。Cirs 023等中心校準(zhǔn)模體提供了一種經(jīng)濟(jì)高效、快速和準(zhǔn)確的方法來測試輻射等中心與圖像引導(dǎo)系統(tǒng)的等中心重合。

ISO 立方體專為日常系統(tǒng)檢查而設(shè)計。LINAC激光器和光場可以使用ISO立方體外部的雕刻標(biāo)記“調(diào)諧"到真正的輻射等中心。可以使用內(nèi)置射線標(biāo)記檢查光場和輻射場對準(zhǔn)。更重要的是，可以檢查OBI和EPID的等中心是否與處理光束的空間對齊和重合。

ISO 立方體包含一個的中心點(diǎn)基準(zhǔn)點(diǎn)和一個偏移目標(biāo)。偏移目標(biāo)用于通過定位目標(biāo)，移動確定的量并驗(yàn)證偏移目標(biāo)是否已定位在等中心，來確保kV/MV成像產(chǎn)生的工作臺偏移坐標(biāo)準(zhǔn)確。中心基準(zhǔn)點(diǎn)和偏置目標(biāo)直徑為 6.35 mm，由陶瓷制成。外部加工有同心圓目標(biāo)，使用戶能夠客觀地評估所有設(shè)置錯誤，包括旋轉(zhuǎn)，并輕松地將模型與真實(shí)的輻射等心對齊。ISO 立方體的加工公差為 ± 0.02 mm。目標(biāo)定位精度±0.1毫米。

提供可選的光學(xué)目標(biāo)幀適配器，以簡單且可重復(fù)的方式將任何無框 SRS RF 或光學(xué)跟蹤目標(biāo)陣列機(jī)械地注冊到 ISO 立方體。用戶可以通過他們選擇的粘合劑或機(jī)械緊固件安裝目標(biāo)陣列。

有兩個平臺可用于 ISO 立方體。一個設(shè)計用于注冊沙發(fā)分度桿，并提供用于增量調(diào)整俯仰、橫滾和偏航的索引。第二個平臺提供調(diào)平支腿和嵌入式標(biāo)記，用于使用Iso Analyze軟件計算kV/MV像素尺寸。

Cirs023 ISO立方體QA模體

Cirs 023等中心校準(zhǔn)模體特征：

快速且易于使用

的基準(zhǔn)點(diǎn)可在 EPID、kV 和 CBCT 成像中產(chǎn)生清晰的圖像

偏移基準(zhǔn)點(diǎn)，用于校正的準(zhǔn)確性

檢查 - 激光對準(zhǔn)

– 光場大小驗(yàn)證

– kV 和 MV 成像儀重合

– CBCT過程精度

– 歐比精度

– 工作臺高度精度

– 輻射場/光場對準(zhǔn)

Cirs023 ISO立方體QA模體

Cirs 023等中心校準(zhǔn)模體選配軟件：

ISO Analyze™ 圖像分析軟件與 ISO Cube™ Daily QA Phantom 和 ISO Base™ Align Platform 集成，通過分析 EPID 檢測器采集的 DICOM 圖像，實(shí)現(xiàn) LINAC 等中心的用戶友好質(zhì)量控制?？丶詣舆\(yùn)行，分析ISO立方體™的圖像并量化大量評估參數(shù)。它允許用戶輕松地為每個前面的控件生成報告。

Cirs 023等中心校準(zhǔn)模體產(chǎn)品實(shí)物圖：